光学临近修正（OPC）是半导体制造领域中的一项关键技术，主要用于减少光刻过程中由于光学系统限制而产生的图案失真。SAILES I-OPC 工具结合高精度的模型仿真，通过在掩模版上对设计图案进行精细调整，OPC技术能够确保在光刻胶上形成的图案尽可能地接近原始设计，从而显著提升图案的精度和一致性。这种修正不仅有助于减少不同曝光条件下图案尺寸的变化，还能降低制造缺陷的发生率。随着半导体工艺节点的不断缩小，OPC技术在适应先进工艺、提高电路性能和生产效率方面发挥着至关重要的作用
