SAILES I-MPC（掩模工艺修正）工具通过校正工艺偏差，确保掩模图案的高精度成形。其基于物理模型预测电子束能量分布及刻蚀速率变化，动态调整掩模图形尺寸并优化边缘平滑度，从而将掩模关键尺寸（CD）误差控制在规定范围内。
SAILES I-MPC工具支持通过模型来对工艺的负载效应（Loading Effect） 和电子散射效应（Scattering Effect）进行补偿修正。MPC工具主要分为以下三个部分，建立MPC模型， MPC校正程序以及MPC模型验证程序
