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光掩膜类EDA软件
SAILES I-MPC产品
SAILES I-MPC(掩模工艺修正)工具通过校正工艺偏差,确保掩模图案的高精度成形。
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SAILES I-MDP产品
SAILES I-MDP 软件能够将版图数据转换为掩模版生产机台可识别的数据格式,实现版图数据切割及快速转档提。
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产品与服务
华芯程开发的系列产品涵盖了计算光刻、良率提升、设计赋能及光掩模等各领域,并提供IP服务,对设计、制造流程加以优化,进而缩短研发时间,加速工艺开发,带来良率提升。
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